真空過渡分為1000Pa、1Pa、10-4Pa三級,異于10Pa、10-4Pa兩級模式,最大優(yōu)化羅茨泵在1000Pa~1Pa的抽氣效率,降低設備低真空段的泵組配置,減少設備能耗節(jié)約成本。
采用低溫泵在鍍膜前進行樣片運送時水汽的收集,抽氣效率高,對設備場地濕度要求降低,減少生產建設投資。
線性源采用一體化加熱及模塊化坩堝拼接設計,坩堝個體尺寸小具有極小的熱變形,坩堝位置可調節(jié)具有鍍膜均勻性調節(jié)的作用。
技術參數 | |
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設備型號 | ZDX-300(600、1200) |
極限真空 | 8×10-5Pa |
腔室功能分類 | 進、出樣室(1000Pa) |
低真空過渡室(1Pa) | |
高真空過渡室(5×10-4Pa) | |
蒸鍍室(5×10-4Pa) | |
蒸發(fā)源類型 | 線性源:室溫~700℃,水冷 |
蒸發(fā)距離 | 120~300mm |
技術參數 | |
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樣品幅寬 | 300、600、1200mm |
常用蒸發(fā)材料 | C60、BCP、LiF、PbI2、CsBr、Cu等 |
鍍膜節(jié)拍 | ≥60s |
連續(xù)運行時間 | ≥300h |
≥50h(C60、1A/s) | |
膜厚均勻性 | ≤±5% |
鍍膜速率穩(wěn)定性 | ≤±0.1A/s |
鍍膜時樣品溫度 | ≤60℃ |
技術優(yōu)勢 |
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針對電子傳輸層(C60)蒸發(fā)鍍膜設備 |
針對C60蒸發(fā)材料吸附氧、水汽對蒸鍍穩(wěn)定性的影響,在鍍膜室進行預蒸發(fā)處理、深冷收集等處理,提高C60蒸鍍溫度穩(wěn)定性,延長連續(xù)鍍膜時間。 |
線性源根據C60特性,蒸發(fā)口采用不遮擋方式,蒸發(fā)速率更快、減少冷凝載體面積、穩(wěn)定性更好。 |
技術優(yōu)勢 |
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針對鈣鈦礦層共蒸發(fā)鍍膜設備 |
兼容2-3源共蒸發(fā) |
共蒸發(fā)源具有2種工作模式,同步混合鍍膜,分層交替鍍膜,針對不同材料的物理特性具有更好的兼容性和共蒸發(fā)效果。 |
線性源mask具有多孔、狹縫、寬縫等多樣化結構方式,針對不同材料的物理特性能夠分別解決:樣品降溫、減少mask冷凝、蒸發(fā)效率調控、發(fā)散角調控等問題。 |
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